升级后的Lewatit可用于电子行业和微系统技术
无需氢气即可催化去除过氧化氢
上海，2021年9月28日——特殊化学品公司朗盛升级了其用于电子行业除氧应用的Lewatit K 7333离子交换树脂。现在，改进的聚合物基质与改性的配方相结合，可以生产出纯度高的掺钯强碱性阴离子交换剂，该产品可用于生产半导体制造和晶圆抛光工艺所需的超纯水（UPW）。在这一领域，只能使用经过特殊净化的离子交换剂来生产纯度极高的水。
作为离子交换树脂的领先制造商之一，朗盛致力于通过这种新型产品在电子行业获得更多客户，并巩固其市场地位。
面向开拓性应用升级成功产品
近年来，离子交换剂已成功用于催化去除工艺水中的氧气。“含氧水流经载有Lewatit K 7333的过滤器。在逆流中，氢气通过过滤器。掺钯离子交换剂在这里起到催化剂的作用。在‘冷燃烧’过程中，氢气和氧气反应生成水。”朗盛液体净化技术（LPT）业务部技术营销经理Hans-Jürgen Wedemeyer介绍道。
Lewatit K 7333的另一个应用是在没有氢气的情况下催化去除H2O2（过氧化氢）。这项技术越来越多地用于生产超纯水。以这种方式生产的质量更高的超纯水目前的需求量比较大，因为对于半导体行业中越来越小的模块间隔，残留离子含量被限定在ppt/ppq范围内。理想情况下，TOC（总有机碳）含量应处于检测限。“随着模块的增强和完善，对水的纯度要求越来越严格，这意味着大幅减少纳米范围内的颗粒数量越来越重要。”Wedemeyer说道。
为了达到这些非常低的值，需要使用特殊的紫外灯。这种灯可以氧化水中的任何残留有机物，产生CO2。然后，离子交换剂吸收CO2，将其转化为碳酸氢盐。紫外灯处理过程中的一个副作用是会形成过氧化氢（辐解），损坏下游的离子交换剂。这将增加TOC，并在下游离子交换剂中形成颗粒。掺钯Lewatit K 7333可将辐解形成的过氧化氢降至低ppt范围，离子交换剂本身只会造成非常小的TOC、颗粒或残留离子污染。
“这项技术已经用于许多新工厂，并且正在现有工厂中进行改进。因此，我们预计对Lewatit K 7333离子交换剂的需求量会增加，以便我们满足半导体行业对水纯度日益严格的要求。”Wedemeyer说道。
电子行业湿化学法必不可少的物质——离子交换剂
在微电子元件和纳米电子元件生产中，对于光刻涉及的晶圆加工或复杂的湿化学法而言，超纯水是不可或缺的成分。上述工艺用于制造半导体组件，例如计算机处理器、存储芯片、发光二极管（LED）、液晶（LC）和LED显示器以及光伏模块。超纯水还用于微系统技术，该技术用于制造和加工微泵、微电机和微阀所需的微型机械部件。超纯水是防止或去除精密结构中小至纳米级的沉积物或杂质的重要先决条件，这些物质如果不去除，会导致生产故障和极高的废品率。“随着电子元件的尺寸越来越小，对超纯水的质量要求也在不断提升。”Wedemeyer表示。
